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​제품 문의 및 상담

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반도체 및 LCD(OLED) 장비 내부의 기류 및 열해석은 장비의 공정 환경에 따라

미소하게 해석의 접근법이 달라지지만 기본적인 CFD 접근에서는 거의

유사한 방식으로 진행됩니다

반도체 / LCD / OLED 장비 분야 CFD 사례

​해석 수행 과제

SEMI CONDUCTOR

- 급속열처리 장비 내부 열 유동 해석

- Dry Etch system 진공장비 유동 해석

- Thermal CVD 장비 열 유동 해석

- Scrubber 내부 열 유동 해석

- CVD 공정 내부 유동 해석

- 고온 Anneal 장비 내부 열 유동 해석

- Baking 장비 내부 열 유동 해석

- Ashing 장비 내부 열 유동 해석

- 검사장비 유동 해석

LCD / OLED

- Vacuum Baking 장비 열 유동 해석

- Repair 장비 내부 유동해석

- Wet cleaning system 유동 해석

- Wet station 내부 유동 해석

- Oven 내부 열 유동 해석

- 온조기 내부 열 유동 해석

- 장비 내부 Glass 이송에 따른 유동 해석

- 장비 내부 Robot moving에 따른 유동 해석

- 열처리 공정 Chamber 내부 열 유동 해석

해석 진행 사례

Scrubber 내부 열 유동해석

Scrubber.png

공정장비 내부 유동해석

​(2단 Baffle)

Wafer.png

Wafer Cassette 유동해석

​(Nozzle 유동 균일화)

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공정장비 열 유동해석

(분배기 유동 균일화)

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Glass 세척장비 유동 분석

​(Wet station / Air Knife)

lcd01.jpg

Heating stage 열해석

​(공정환경에서의 열유동)

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Oven 열 유동 해석

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Repair 장비 유동해석

​(유동 균일화)

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Glass 이송에 따른 열유동해석

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해석 동영상

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